化學氣相沉積

简 化学气相沉积 · 繁 化學氣相沉積
Mandarin · Pinyinhuà xué qì xiāng chén jī

Bedeutungen

  1. Chemische Gasphasenabscheidung (engl: chemical vapor deposition, CVD, ein Beschichtungsverfahren, z. B. für Wafer) (S, Tech)

Schriftzeichen

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Töne · Mandarin

4–2–4–1–2–1 · hua4 xue2 qi4 xiang1 chen2 ji1

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HanDeDict · g02Fj1j
Mitwirkende: HanDeDict, zydeo-robot · herausgegeben von Gábor L Ugray
Ausgabe 2026-10-14T02:30:01Z · Quellzeile 426395
Originalquelle · CC BY-SA 3.0 · Ausgabe, Namensnennung & Bearbeitung
Genauer Quelleintrag & Bearbeitungshistorie化學氣相沉積 化学气相沉积 [hua4 xue2 qi4 xiang1 chen2 ji1] /Chemische Gasphasenabscheidung (engl: chemical vapor deposition, CVD, ein Beschichtungsverfahren, z. B. für Wafer) (S, Tech)/
  • 2011-05-28T01:27:49Z HanDeDict Stat-New 001>Originalversion HanDeDict-Datei
  • 2016-10-23T15:32:07Z zydeo-robot Stat-New 002>Datenbereinigung

SHA-256 des Quelleintrags: 78d9db2eb903a5fe77100407a083ab3ee612db645c31ea3e9664ae10d11bd4dd

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